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第213章 和平演变(1/2)

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现在一些有心人士还可以抑制自己的贪心。

那是因为国家的力量在保护星辰公司,如果……

抵挡不住了呢?

“我还是不愿意看见流血事件的发生。”

张星辰摇了摇头说道。

“可是老张你有没有想过,随着我们掌握的科技越来越多,早晚我们拥有的力量会凌驾于这颗星球之上的,到时候我们咋办呢?”

“他们会允许我们的存在吗?”

“那就和平演变吧,都是一个星球上的人,我们还要一致对外应对外星人呢。”

张星辰笑着说道。

“现在我们所掌握的技术还不足以凌驾这颗星球上所有的国家,还是猥琐发育吧。”

“好了,先制造光刻机吧。”

张星辰笑着说道。

没有花费多长时间就在小白的指挥领导下,控制着他手下的机器人就把45纳米的光刻机给制造出来了。

“看看吧老张,这光刻机一定让你满意,仅仅能生产45纳米的芯片出来。”

小白有些自豪地说道:“为了卡住45纳米,我可是花费了不少的心思拉。”

“因为是45纳米的这种低级的光刻机,所以我只能用DUV光,也就是深紫外光。”

“这种光是不可见光,具体的名字叫做ArF准分子激光,这是它的学名。”

“ArF准分子激光的波长有183纳米长,在DUV光刻机里边,按照工作方式还可以分为两种。”

这两种分别是干分式和液浸式,这一次制造DUV光刻机,星辰公司选择的是液侵式。

液侵式在理论上的上限是可以制造出来七纳米芯片。

想想就可怕,DUV光刻机竟然可以制造出来七纳米的芯片,第一感觉就是不可能。

不过没有人会这么做,液侵式的工作方式就是用多重曝光的方式提高精度。

虽然精密度上来了,但是难度却是大大地提升了。

每一次曝光一次,精密度就提升一些,但是难度也会自然而然地提升了。

这样层层累积下去,难度增长的非常大,以至于制造出来的芯片成品率非常低。

根本就是赔本买卖,只适合于不计成本生产,根本就不能盈利。

不仅不能盈利,而且还非常赔钱。

根据现实情况,实际上想要制造出来十纳米以下的芯片,最好的选择还是用EUV光线,也就是极紫光线。

只不过用了极紫光线的光刻机是EUV光刻机了,要是现在星辰公司拿出来EUV光刻机,那是真的有点吓人了。

继续……DUV光线被激光发射器发射出来之后,方向会有一定的偏差,这个时候想要扭转这一个偏差,那么就需要光束矫正器进行矫正。

一般情况下需要三个光束矫正器就可以矫正过来,这里小白为了提高矫正度,使用了四个光束矫正器。

这样矫正的成都更高,效果也是更好。

光也是一种量,当光束被矫正过来之后,需要能量控制器进行控制光束的能量。

根据我们实际需要来设置光束的能量。

我们需要能量大的话,那就把能量调大一些,需要能量小的话,那么我们就调小一些。

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